半导体集成电路制造所需要的高纯气体主要分为两大类：
1.普通气体：也叫大宗气体，主要有：H2 、N2 、O2 、Ar 、He等。
2.特种气体：主要指各种掺杂用气体、外延用气体、离子注入用气体、刻蚀用气体等。
半导体制造用气体按照使用时的危险性分类：
1.可燃、助燃、易然易暴气体：H2 、CH4、H2S、NH3 、SiH4、PH3 、B2H6、SiH2CL3、CLF3、SiHCL3等
2.有毒气体：AsH3、PH3 、B2H6等
3.助燃气体：O2 、N2O、F2 、HF等
4.窒息性气体：N2 、He 、CO2、Ar等
5.腐蚀性气体：HCL 、PCL3 、POCL3 、HF、SiF4、CLF3等
气体的监测和分析是检查气体质量、确保用气点或用气设备能所用高纯气体的重要手段，也是保证安全生产的重要措施。高纯气体的监测与分析，只有采用先进的分析方法和精密的分析仪器，芜湖气体公司，才能获得准确的分析数据，气体监测和分析的重要性，随着晶片的几何结构缩小，集成电路集成度的不断提高，即使有极微量的气态杂质的沾污和的尘埃污染，也会给生产带来严重的破坏性。
电子气体主要分为氢化物（超纯氢、、磷烷等），氟化物（六氟化硫、三氟化氮、四等），氧气气体公司，碳氟化合物（四氟化碳、六氟等）。目前，我国电子气体品种基本齐全，但数量和质量与发达国家相比，尚有较大差距。随着半导体和微电子工业的迅猛发展，气体公司电话，对电子气体的品种、数量、质量及纯度提出了更高的要求。
标准气体又分为单标气体和多元标准气体。目前，标准气体基本满足了我国石油、化工、环保、传感器校准等诸多领域的应用。但对活性较强的标准气，国内尚无法量产的问题，如氯标气、标气等。
高纯气体即为大家熟知的氧气、氮气、氢气、氦气、气等（纯度通常都是大于99.999%的）。高纯气体大多用于超大规模的集成电路及分离器件、光电子等高科技领域。当前国内公司主要靠精馏分离制备高纯气体，国外公示在制备某些高纯气体时采用吸附剂净化的方法，实现了常压净化和高压提纯充瓶。国内技术在这方面进来虽有所突破，但提纯技术还有待提高。
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